干研磨湿研磨抛光的基本原理

干研磨湿研磨抛光的基本原理
干研磨,主要是嵌入研磨平板表面的砂粒起切削作用。当零件在研磨压力的作用下,在嵌有砂粒的研磨平板上相对滑动时,砂粒对被研磨表面的高点产生压缩作用,由于内应力的增大而产生弹性变形。当应力大过屈服点后,之后进入塑性变形,晶粒和晶粒之间产生滑移,随着变形的增大,之后失去联系而破裂,这便是所谓的研屑。研磨辅料的存在,改&善了切削条件,促进了研磨质量和效率的提高。当然,在切削作用的同时,还存在着其它一些辅助作用。如氧化膜的形成和去除;砂粒挤压产生的塑性变形作用;摩擦和切削所起的热熔作用,这些作用随着磨料粒度的细化而增强。
湿研磨,由于不间断的添加研磨剂,不但有新砂粒参加研削,而且砂粒的各个微刃变换切削,使各个锋刃都发挥了作用,同时冷却润滑条件良好。随着研磨剂中活化辅料的增加,化学作用和电化学作用也随之增强。这是使之成为高&效率研磨方法的主要原因。
抛光是一个十分复杂的加工过程。研磨剂中品种繁多的活化物质大量增加,化学作用十分活跃频繁,磨料只起到破坏氧化膜的作用。同时,某些磨料的本身起着化学作用。如氧化铬中的游离硫磺蒸汽与金属表面起化学作用,形成了一层很薄的强度很低的硫化膜,它对硬脂酸和氧化铬起吸附作用。当零件与研具相对滑动时,吸附在零件表面的氧化铬将高点的硫化膜破坏,重新露出新鲜的金属,复而又形成硫化膜,这样反复不断的对零件的波峰进行光整加工。
由于研具用极软的材料制成,砂粒在抛光过程中,往往存在于软基体之中,因而在一&定范围内,磨料的粒度对抛光效果影响不是很明显。